1. 3D materials can be fabricated using a lot of methods like two-photon photolithography, interference lithography and molding.

Vật liệu 3D có thể được chế tạo bằng nhiều phương pháp như in li-tô quang học hai photon, in li-tô giao thoa và tạo khuôn.

2. However, they cannot be prepared by using sophisticated fabrication methods like two-photon and interference photolithography as mentioned before.

Tuy nhiên, chúng không thể được chuẩn bị bằng cách sử dụng các phương pháp chế tạo tinh vi như in li-tô quang học hai photon và nhiễu xạ như đã đề cập trước đây.

3. It is used as a basic solvent in the development of acidic photoresist in the photolithography process, and is highly effective in stripping photoresist.

Nó được sử dụng như một dung môi cơ bản trong sự phát triển của quang khắc axit trong quá trình photolithography, và có hiệu quả cao trong việc tẩy quang khắc.