1. The air bridge is fabricated using conventional photolithography, ion-beam dry etching, and selective wet etching.

Le pont d'air est produit par photolithographie classique, attaque à sec par faisceaux d'ions, et attaque sélective à l'acide.

2. According to the semi-conductor industry, the operation of PFOS based photo acid generators (PAGs) is critical to the semiconductor industry in the photolithography process

D'après l'industrie des semi-conducteurs, les générateurs de photo-acides à base de SPFO sont critiques pour cette industrie, en particulier pour le procédé photolithographique

3. According to the semi-conductor industry, the operation of PFOS based photo acid generators (PAGs) is critical to the semiconductor industry in the photolithography process.

D’après l’industrie des semi-conducteurs, les générateurs de photo-acides à base de SPFO sont critiques pour cette industrie, en particulier pour le procédé photolithographique.

4. The aforementioned technique solves the problem associated with current techniques (photolithography, dry etching) which require the use of acids or solvents during the process, said products seriously affecting the organic layers below the cathode.

Le procédé précité permet de résoudre le problème rencontré par les techniques actuelles (photolithographie, gravure à sec) qui font appel à des acides ou des solvants pouvant sérieusement endommager les couches organiques situées sous la cathode.

5. Measuring apparatus and instruments, namely UV intensity meters and UV actino meters, all aforementioned goods for use in or as accessories to photolithography and UV curing systems (not for use in or with cameras)

Appareils et instruments de mesure, à savoir mètres d'intensité des rayons UV et des actinomètres UV, tous les produits précités pour en tant que tels ou comme accessoires dans le domaine de la photolithographie et des systèmes de soins aux rayons UV (à ne pas utiliser dans ou avec les caméras)