1. High refractive index fluids with low absorption for immersion lithography

Fluides a indice de refraction eleve presentant une faible absorption utilises dans le cadre d'une lithographie en immersion

2. Other techniques have been added since then, including lithography, engraving, silk-screening, etching and aquatint.

D'autres techniques sont venues s'ajouter depuis, dont la lithographie, la gravure, la sérigraphie, la gravure à l'eau-forte et l'aquatinte.

3. Forming an adhesive layer on a nanoimprint lithography template or a double-sided disk.

La présente invention concerne la formation d'une couche adhésive sur un patron de lithographie par nano-impression ou un disque double face.

4. Provided are beam ablation lithography methods capable of removing and manipulating material at the nanoscale.

L'invention concerne des procédés lithographiques par ablation de faisceaux capables d'éliminer et de manipuler un matériau à l'échelle nanométrique.

5. Resist underlayer film forming composition for lithography containing polymer that contains acrylamide structure and acrylic acid ester structure

Composition de formation de film de sous-couche de réserve pour lithographie contenant un polymère qui contient une structure acrylamide et une structure ester d'acide acrylique

6. The fabricated optical system may be for use as an afocal relay, or in numerous image forming or lithography applications.

Le système optique fabriqué peut être destiné à une utilisation comme relais afocal, ou dans de nombreuses applications de formation d'image ou lithographie.

7. The fluoride crystalline optical lithography lens element blanks are comprised of multiple adjoining abutting crystalline subgrains with low boundary angles.

Les ébauches d'élément de lentille en cristal de fluorure pour la lithographie optique sont composées de multiples sous-grains cristallins contigus à angles de frontière faibles.

8. In an example process, a metal thin film resistor (112) is formed in an integrated circuit (100) with the addition of one lithography step.

Dans un procédé présenté à titre d'exemple, une résistance à couche mince métallique (112) est formée dans un circuit intégré (100) avec une étape additionnelle de lithographie.

9. Some examples include aerial images that represent expected patterns projected by a lithography system on a substrate as well as photoresist images that represent expected resist patterns.

Certains exemples comprennent des images aériennes qui représentent des motifs attendus, projetées par un système de lithographie sur un substrat, ainsi que des images de résine photosensibles qui représentent les motifs de réserve attendus.