1. These included various lithography and etching techniques, deposition processes, and conventional sputtering and evaporation techniques.

So kamen beispielsweise verschiedene Lithographie- und Ätzverfahren, Abscheideprozesse sowie konventionelle Sputter- und Evaporationsverfahren zum Einsatz.

2. Researchers also worked on dry and wet etching techniques, electron-beam lithography, and device bonding.

Weiterhin wurde mit Trocken- und Nassätzverfahren, Elektronenstrahllithographie und Bondern gearbeitet.

3. Urged by this the UV2Litho project focused on accelerating process development for the introduction of VUV lithography technology in production lines.

Davon angetrieben konzentrierte man sich im Rahmen des UV2Litho-Projekts auf die Beschleunigung der Prozessentwicklung zur Einführung der VUV-Lithografietechnik in die Produktionslinien.

4. Actinic inspection of masks in computer chip manufacture refers to inspecting the mask with the same wavelength of light that the lithography system will use.

Aktinische Inspektion von Masken in der Herstellung von Computerchips bezeichnet das Testen bei derselben Lichtwellenlänge, die auch für die Fertigung benutzt wird.

5. This results in a measuring method which can also be used to measure lithography masks which are optimized for use with an anamorphic projection optical unit during projection exposure.

Es resultiert ein Vermessungsverfahren, mit dem auch Lithografiemasken vermessen werden können, die zur Verwendung mit einer anomorphotischen Projektionsoptik bei der Projektionsbelichtung optimiert sind.

6. Single Nb-Al junctions were fabricated by applying e-beam lithography on a double layer of polymethyl methacrylate and copolymers resists, followed by two-angle evaporation of Al and Nb.

Einzelne Nb-Al-Verbindungen wurden hergestellt, indem die Elektronenstrahllithografie auf eine Doppelschicht aus Polymethylmethacrylat und Kopolymerlack angewandt wurde, gefolgt von einer zweiseitigen Verdampfung von Al und Nb.

7. An X-ray lithography mask comprising a frame and a membrane clamped thereon is proposed, wherein the membrane consists of nickel or a nickel base alloy and is provided at least partly with an absorber layer.

Vorgeschlagen wird eine Röntgenlithographiemaske, die einen Rahmen und eine darauf gespannte Membran umfasst, wobei die Membran aus Nickel oder einer Nickelbasislegierung besteht und zumindest teilweise mit einer Absorberschicht versehen ist.