1. The acid etching process may utilize a glass etching cream.

Le procédé de gravure à l'acide peut utiliser une crème pour gravure sur verre.

2. Etching mordant acids

Acides de mordançage

3. Device and method for controlling etching depth during alternate plasma etching of semiconductor substrates

Dispositif et procede pour le controle de la profondeur de gravure lors de la gravure alternee par plasma de substrats semi-conducteurs.

4. Etching mordants [acids]

Mordants pour procédés de gravure à l'eau-forte [acides]

5. The air bridge is fabricated using conventional photolithography, ion-beam dry etching, and selective wet etching.

Le pont d'air est produit par photolithographie classique, attaque à sec par faisceaux d'ions, et attaque sélective à l'acide.

6. Additive for alkaline etching solutions, in particular for texture etching solutions, and process for producing it

Adjuvant pour solutions de gravure alcalines, en particulier pour solutions de gravure de texture, et son procédé de production

7. Cryo-etching, freeze-drying techniques

Technique de cryo-décapage, cryo-séchage

8. This texturing may be executed, for example, by chemical etching, laser etching, or other techniques.

Cette texturation peut être exécutée, par exemple, par gravure chimique, gravure au laser ou d'autres techniques.

9. The preparation and the use of said acid etching mixtures, particularly in etching silicon, are also disclosed.

Cette invention concerne également la préparation et l'utilisation de ces mélanges d'attaque acides, en particulier pour l'attaque du silicium.

10. Techniques for improving etching in a plasma processing chamber

Techniques permettant d'ameliorer l'attaque dans une chambre de traitement au plasma

11. My technique is etching with acid, or engraving.

J'utilise la technique de la gravure à l'acide ou je sculpte par incision.

12. Glass etching composition and method for frosting using the same

Composition de gravure du verre et procede de givrage utilisant cette composition

13. The frosted regions may be formed by etching the interior or exterior surface of the bulb, such as via sandblasting or acid etching.

Les régions dépolies peuvent être formées en gravant la surface intérieure ou extérieure de l'ampoule, comme par le biais d'une gravure au sable ou d'une gravure à l'acide.

14. Etching: to engrave by eating away the surface with acids.

Gravure à l'eau-forte : gravure résultant de l'action corrosive de l'acide sur une surface.

15. The method uses a halogenated organic compound, such as 2,2,2-trifluoroacetamide or trifluoracetic acid to enhance etching of the dielectric while attenuating etching of the conductor once exposed.

Ce procédé utilise des composés organiques halogénés, tels que 2, 2, 2-trifluoroacétamide ou l'acide trifluoracétique, pour favoriser la gravure du diélectrique tout en atténuant la gravure du conducteur une fois exposé.

16. I used an acid-etching solution to lift it up.

J'ai utilisé une solution d'acide pour le nettoyer.

17. • Hazardous waste such as used metal plating/metal etching acid solutions;

• Résidus dangereux, (comme ceux utilisés dans des solutions acides de galvanisation ou d’attaque corrosive);

18. The etching composition comprises an alkali metal hydroxide and gallic acid.

La composition de décapage comprend un hydroxyde de métal alcalin et de l'acide gallique.

19. Following such removal, additional etching techniques are also described for nano-imprinting.

L'invention se rapporte également à des techniques de gravure supplémentaires qui permettent d'effectuer une nano-impression après que le matériau a été enlevé.

20. An etching method, wherein a mask having a film containing at least chromium and oxygen is formed on a glass substrate, and etching is performed using a hydrofluoric acid-based etchant.

L'invention concerne un procédé de gravure, dans lequel un masque possédant un film qui contient au moins du chrome et de l'oxygène est formé sur un substrat de verre ; la gravure étant exécutée au moyen d'un agent de gravure à base d'acide fluorhydrique.

21. Cutting, dressing, burnishing by abrasion or metal coating, etching of metals

Découpage, parement, polissage par abrasion ou revêtement avec du métal, décapage de métaux

22. Integration of hollow waveguides, channels and horns by lithographic and etching techniques

Integration de guides d'ondes creux, de canaux et de cornets par techniques lithographiques et techniques d'attaque

23. Now we make the Nanopatch with a technique called deep reactive ion etching.

Maintenant, nous faisons le Nanopatch avec une technique appelée la gravure ionique réactive profonde.

24. An etching technique for the fabrication of thin (Al, In, Ga)N layers.

L'invention concerne une technique d'attaque chimique pour la fabrication de couches minces de (Al, In, Ga)N.

25. The etching of the enamel is avoided by choosing a non acid solution.

Smartbleach® est conçu de façon à ne pas entamer l'émail des dents. Le traitement final au fluor avec le laser permet même de renforcer l'émail.

26. Two-part and one-part self-etching dental adhesives containing polymerizable acidic monomers.

L'invention concerne des adhésifs dentaires d'auto-mordançage en deux parties ou en une partie contenant des monomères acides polymérisables.

27. Applications include deep space propulsion as well as plasma accelerators and ion etching.

Les applications comprennent une propulsion d'espace lointain ainsi que des accélérateurs à plasma et une gravure d'ions.

28. The material can be removed by laser ablation, etching, or other processing approaches.

Le matériau peut être retiré par ablation laser, gravure ou d'autres techniques d'usinage.

29. The cements have superior adhesion to tooth without separtely acid etching dentin or enamel.

Les ciments présentent une adhésion supérieure à la dent sans mordançage par acide séparément de la dentine ou de l'émail.

30. Shaping can be done using a wire saw, etching, ultrasonic shaping or other technique.

Le façonnage peut être réalisé à l'aide d'une scie à fil, d'un procédé de gravure, d'un façonnage par ultrasons ou d'une autre technique.

31. Methods for forming vias in glass substrates by laser drilling and acid etching are disclosed.

L'invention concerne des procédés de formation de trous d'interconnexion dans des substrats en verre par forage au laser et décapage à l'acide.

32. The subsequent treatment takes place by sandblasting, acid etching etc or by a combination thereof.

Le traitement final est réalisé par sablage, par gravure acide, etc. ou par une combinaison de procédés.

33. Other techniques have been added since then, including lithography, engraving, silk-screening, etching and aquatint.

D'autres techniques sont venues s'ajouter depuis, dont la lithographie, la gravure, la sérigraphie, la gravure à l'eau-forte et l'aquatinte.

34. His caricatures are almost all in etching, some also with aquatint, and a few using stipple technique.

Ses caricatures sont principalement des eaux-fortes, certaines en aquatinte, d'autres réalisée avec la technique du pointillé.

35. The etching solution also comprises a surfactant agent, a carboxylic acid, and a copper corrosion inhibitor.

La solution de gravure comprend également un agent tensioactif, un acide carboxylique et un inhibiteur de corrosion du cuivre.

36. This acid etching process gives to glass the "iced effect" mostly request for skin care packaging.

Ce processus de gravure acide donne au verre "un effet glacé" est surtout demandé pour les emballages de soin de la peau.

37. The parts of the wafer (1) on the second areas are etched in the second trench etching.

Les parties de la tranche (1) sur les secondes zones sont gravées pendant la seconde gravure de tranchée.

38. The shape of the tip can be tailored by etching techniques to pyramidal, conical shape or the like.

La forme de la sonde peut être dimensionnée par des techniques d'attaque chimique en cône ou en pyramide, par exemple.

39. The chrome etching process includes use of a solution including cerric ammonium nitrate, nitric acid, and acetic acid.

Le processus d'attaque au chrome consiste à utiliser une solution comprenant du nitrate d'ammonium cerrique, de l'acide nitrique et de l'acide acétique.

40. In one example, tight control over temperature and water content of an acidic etching solution is provided.

Un exemple concerne le contrôle étroit de la température et de la teneur en eau d'une solution d'attaque acide.

41. Our results showed a significant reduction of the enamel adhesive bond compared to conventional acid etching.

Nos constatations montraient une réduction distincte de la connexion entre l'émail des dents et l'adhésif, comparée avec la préparation conventionnelle à l'acide.

42. The cavities are formed using a laser ablation, ion implantation, sand blasting, or dry etching process.

Pour former les cavités, on procède par ablation au laser, par implantation ionique, par sablage, ou par gravure au plasma.

43. This treatment includes surface roughening by etching or abrasion, or obscuration by opaque or semi-opaque coatings.

Ce traitement comporte un dépolissage par attaque chimique ou abrasion, ou d'obscurcissement par revêtements opaques ou semi-opaques.

44. Alkaline solutions from aluminum surface coating and etching; alkali cleaner wastes; waste lime sludges and slurries; anion regenerants.

Solutions alcalines résultant de l’attaque à l’acide et du traitement superficiel de l’aluminium; déchets de détersifs alcalins; boues résiduaires de chaux; régénérateurs anioniques.

45. Glassworking - decoration and treatment of glass, glass-blowing, hot working, polishing, cutting, sanding, colouring, painting, etching, gilding, engraving, frosting

Travaux de verrier - ennoblissement et traitement du verre, soufflage [verrerie], façonnage à chaud, polissage, abrasion, sablage, coloration, peinture, gravure à l'acide, dorure, gravure, matage

46. The contour may be effected by laser etching, micro-machining, optical thin-film coating or other such technique.

Le relief peut être exécuté par gravure au laser, micro-usinage, revêtement du type mince couche optique, ou tout autre technique analogue.

47. The etching gas is preferably a hydrochloric acid containing gas which may contain a chlorine containing gas.

Ce dernier est, de préférence, un gaz contenant de l'acide hydrochlorique et pouvant contenir un gaz contenant du chlore.

48. Aqueous acidic etching solution and method for texturing the surface of single crystal and polycrystal silicon substrates

Solutions aqueuses acides de mordançage et méthode de texturation de la surface de substrats de silicium mono et polycristallin

49. She was first introduced to the stencilling technique, but has recently turned her attentions to acid-free etching.

Elle apprend d’abord les techniques du pochoir, mais elle se concentre actuellement sur la gravure sans acide.

50. Negative staining and freeze-etching techniques revealed an outer hexagonally packed layer and an inner tetragonally packed layer.

Les techniques de décapage à froid et des teintures négatives révèlent une couche externe d'hexagones compacts et une couche interne de tétragones compacts.

51. Provided are a packaging-before-etching flip chip 3D system-level metal circuit board structure and technique thereof.

L'invention concerne une structure de carte de circuit métallique de niveau système 3D à puce retournée à mise en boîtier avant gravure et sa technique de production.

52. The present invention provides an etching composition which includes a polyhydric alcohol in combination with two inorganic acids.

La présente invention concerne une composition de gravure qui renferme un alcool polyhydrique combiné à deux acides inorganiques.

53. Aqueous acidic solution and etching solution and method for texturizing surface of single crystal and polycrystal silicon substrates

Solution acide aqueuse et solution de gravure, et procédé de texturation superficielle de substrats en silicium monocristallin et polycristallin

54. The etching of the glass fiber may be performed utilizing hydrofluoric acid, acidulated phosphate fluoride or the equivalent thereof.

On peut effectuer l'attaque à l'acide de la fibre de verre en utilisant de l'acide fluorhydrique, du fluorure de phosphate acidulé, ou une substance équivalente.

55. Hydrofluoric acid The hydrofluoric acid is in the form of a paste or a gel and is used for glass etching.

Acide fluorhydrique L'acide fluorhydrique est sous forme de pâte ou de gel et est utilisé pour la gravure sur verre.

56. Use of isotropic etching for anti-reflective coating removal eliminates thermal shock associated with heated acid bath anti-reflective coating removal.

L'utilisation d'une gravure isotrope pour enlever le revêtement antireflet supprime le choc thermique associé à l'enlèvement de ce revêtement à l'aide d'un bain d'acide chauffé.

57. In the method proposed, areas of the surfaces of plates made of glass or similar material are abraded by blast-cleaning or etching.

Des zones de surface de plaques en verre ou en matériau vitreux sont enlevées par projection de particules ou par attaque chimique.

58. One demonstrated manifestation is in the deterministic optical figuring of thin glasses by wet chemical etching using a buffered hydrofluoric acid solution and Marangoni effect.

Une des manifestations démontrées de cette invention est le façonnage optique déterministe de verres fins par gravure humide au moyen d'une solution d'acide fluorhydrique tamponnée et de l'effet Marangoni.

59. Described herein are aqueous acidic glass etching solutions or media comprising HF and H2SO4, wherein HF is present in concentrations not exceeding about 1.3M.

La présente invention concerne des solutions ou milieux aqueux acides de gravure sur verre comportant HF et H2SO4, HF étant présent en des concentrations ne dépassant pas environ 1,3 M.

60. Engraving, etching, finishing, forging, polishing, abrasion, galvanising, pressing, cutting, colouring, moulding, stamping, tempering, machining, hardening, coating, casting, laminating, drilling, fabrication and treatment of metal

Gravure, gravures à l'eau forte, finissage, forgeage, polissage, abrasion, galvanisation, pressage, découpage, coloration, moulage, emboutissage, trempe, usinage, durcissement, revêtement, coulage, laminage, forage, fabrication et traitement de métaux

61. wastes from chemical surface treatment and coating of metals and other materials (e.g. galvanic processes, zinc coating processes, pickling processes, etching, phosphatising, alkaline degreasing, anodising)

déchets provenant du traitement chimique de surface et du revêtement des métaux et autres matériaux (par exemple, procédés de galvanisation, de revêtement de zinc, de décapage, de gravure, de phosphatation, de dégraissage alcalin et d'anodisation)

62. Various types of acid can also be inserted into the mixture providing a faster processing time and surface etching not possible with straight abrasion techniques.

Différents types d'acides peuvent également être ajoutés au mélange, ce qui diminue le temps nécessaire au traitement et permet de vieillir des surfaces qui ne sont pas atteintes par l'abrasion directe.

63. wastes from chemical surface treatment and coating of metals and other materials (e.g. galvanic processes, zinc-coating processes, pickling processes, etching, phosphatising, alkaline degreasing, anodising)

déchets provenant du traitement chimique de surface et du revêtement des métaux et autres matériaux (par exemple, procédés de galvanisation, de revêtement de zinc, de décapage, de gravure, de phosphatation, de dégraissage alcalin et d'anodisation)

64. The novel and inventive etching composition in accordance with the present invention comprises hydrofluoric acid, nitric acid, acetic acid and an alkali iodide, preferably potassium iodide.

La composition de gravure nouvelle et inventive conformément à la présente invention comprend de l'acide fluorhydrique, de l'acide nitrique, de l'acide acétique et un iodure alcalin, de préférence l'iodure de potassium.

65. 11 01 // wastes from chemical surface treatment and coating of metals and other materials (eg. galvanic processes, zinc coating processes, pickling processes, etching, phosphatiing, alkaline degreasing, anodising)

11 01 // déchets provenant du traitement chimique de surface et du revêtement des métaux et autres matériaux (par exemple, procédés de galvanisation, de revêtement de zinc, de décapage, de gravure, de phosphatation, de dégraissage alcalin et d'anodisation)

66. After the first etching, the method includes entraining abrasive particles in a flow of gas, impinging the particles on the etched layer, and abrading the etched layer.

Après le premier décapage, le procédé consiste à emporter les particules abrasives dans un flux de gaz, à faire tomber les particules sur la couche décapée, puis à abraser la couche décapée.

67. wastes from chemical surface treatment and coating of metals and other materials (for example galvanic processes, zinc coating processes, pickling processes, etching, phosphating, alkaline degreasing, anodising)

déchets provenant du traitement chimique de surface et du revêtement des métaux et autres matériaux (par exemple, procédés de galvanisation, de revêtement de zinc, de décapage, de gravure, de phosphatation, de dégraissage alcalin et d'anodisation)

68. A method for acid etching or sandblasting decorative designs in the smooth surface of hard substrates such as glass, ceramics, plastics, and marble, granite, or other stones.

Procédé permettant d'obtenir par attaque à l'acide ou par sablage des motifs décoratifs sur la surface lisse de substrats durs tels que du verre, de la céramique, des matières plastiques, du marbre, du granit ou d'autres pierres.

69. Consequently, the distribution of the gas to be supplied is made uniform to prevent an abnormal discharge so that uniform etching having no variation can be carried out.

Le gaz servant à produire du plasma passe à travers une zone comprenant des orifices irréguliers formés dans la structure de réseau tridimensionnel, ce qui permet d'obtenir une distribution uniforme du gaz permettant d'empêcher les décharges irrégulières, et de produire une gravure uniforme ne présentant pas d'irrégularités.-

70. The glass etching composition is not hazardous to a human body and is free from the problem of environmental pollution and can be used for easy frosting on a glass surface.

La composition de gravure du verre ne présente aucun danger pour le corps humain et n'entraîne aucune pollution de l'environnement. On peut en outre l'utiliser pour un givrage facile d'une surface en verre.

71. The porosity is achieved by etching the metallic glass-coated microwire or other shapes of glass-coated bodies with acid after annealing to produce a multi-phase glass coating.

Cette porosité est obtenue par l'attaque du microfil enrobé de verre métallique ou d'autres formes de corps enrobés de verre, par de l'acide, après une recuisson, pour produire un enrobage de verre multiphase.

72. Products used for glass etching are not included in the prohibition, since there is no effective substitute for the frosting of glass, a technique used by artists and artisans.

Les produits chimiques de consommation contenant 0,5 % ou plus d’ions de fluorure disponibles sont interdits, à l’exception des agents de gravure pour le verre qui satisfont les conditions du tableau de l’article 45.

73. A wet-etching agent composition for transparent conductive coating, which is an aqueous solution containing oxalic acid and a polyoxyethylene alkyl ether sulfate salt and/or a polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate salt.

L'invention concerne une composition d'agent de gravure humide destinée à un revêtement transparent conducteur, sous forme de solution aqueuse renfermant de l'acide oxalique et un sel de sulfate de polyoxyéthylène alkyl éther et/ou un sel de sulfate de polyoxyéthylène alkylphényl éther.

74. Prior to this etching, the magnesium alloy surface is preferably degreased using an alkaline aqueous solution containing inorganic salt and surfactant or using an acidic aqueous solution containing acid and surfactant.

Avant cette attaque, la surface d'alliage d'aluminium est de préférence dégraissées à l'aide d'une solution aqueuse alcaline contenant un sel inorganique et tensioactif, ou d'une solution aqueuse acide contenant un acide et un tensioactif.

75. The conductor circuit (31) includes a rough surface (32) processed with etching liquid containing a cupric complex and an organic acid, and the solder resist layer (38) is provided on the rough surface (32).

Le circuit de conducteurs (31) présente une surface dépolie (32) résultant d'un mordançage chimique réalisé au moyen d'un liquide contenant un complexe cuprique et un acide organique, la couche de réserve anti-soudure (38) étant appliquée sur la surface dépolie (32).

76. The aforementioned technique solves the problem associated with current techniques (photolithography, dry etching) which require the use of acids or solvents during the process, said products seriously affecting the organic layers below the cathode.

Le procédé précité permet de résoudre le problème rencontré par les techniques actuelles (photolithographie, gravure à sec) qui font appel à des acides ou des solvants pouvant sérieusement endommager les couches organiques situées sous la cathode.

77. An aqueous metal etching composition useful for removal of metals such as nickel, cobalt, titanium, tungsten, and alloys thereof, after formation of metal silicides via rapid thermal annealing during complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) transistor fabrication.

L'invention porte sur une composition aqueuse de mordançage servant à éliminer des métaux tels que le nickel, le cobalt, le titane, le tungstène, et leurs alliages après la formation de siliciures métalliques sous l'effet d'un recuit rapide lors de la fabrication de transistors CMOS.

78. Since the effect of the quantity of electrostatic charges generated at the time of etching a thin metallic film and unbalance in the quantity of electrostatic charges is suppressed, dullness can be eliminated from the shape of the electrode and propagation loss of the surface acoustic wave device can be reduced.

Cela permet de supprimer à la fois l'effet produit par la quantité de charges électrostatiques engendrées au moment de l'attaque d'un film métallique fin et le déséquilibre de la quantité de charges électrostatiques. On peut ainsi éviter tout émoussement dans la forme de l'électrode et réduire l'affaiblissement de propagation du dispositif proprement dit.

79. After removing a part of the upper surface of the interlayer insulating layer (II4) by selective etching, said part being positioned directly above the topmost layer metal layer (AL3) that has been patterned in the effective chip region (AA), the upper surface of the interlayer insulating layer (II4) is planarized.

Après retrait d'une partie de la surface supérieure de la couche isolante intercouches (II4) par gravure sélective, ladite partie étant positionnée directement au-dessus de la couche métallique (AL3) de couche la plus haute qui a été dotée de motifs dans la région de puce efficace (AA), la surface supérieure de la couche isolante intercouches (II4) est planarisée.