1. 본 발명의 식각액 조성물과 이를 이용한 식각 방법은 황산염을 사용하지 않아 단차 및 침식에 의한 단선(Data Open)불량을 방지 할 수 있으며, 또한 유기산을 사용하지 않고 식각이 가능하기 때문에 금속염과의 석출 문제를 해결할 수 있고 패턴의 미세화도 기할 수 있는 장점이 있다.

Since etching is possible without using an organic acid, precipitation with metal salts may be prevented, and fine patterns may be obtained.