1. Further, as an ion beam is irradiated simultaneously with the irradiation of an electron beam, the charges of the electron beam accumulated on the surface of the substrate are neutralized by the charges of the ion beam, thereby preventing electron beam charges from accumulating on the surface of the substrate, and thus preventing the formation of unnecessary surface currents, and crystallizing the amorphous silicon thin film in an efficient manner.

또한, 전자빔을 조사함과 동시에 이온빔을 함께 조사함으로써, 기판 표면에 축적되는 전자빔의 전하가 이온빔의 전하에 의해 중화되도록 하여, 전자빔의 전하들이 기판 표면에 축적되어 불필요한 표면 전류를 형성하는 것을 방지하고 효율적으로 비정질 실리콘 박막을 결정화시킬 수 있게 된다.