1. A nanoporous ultra-low dielectric thin film manufactured by the method can have a permittivity of 2.3 or less and a mechanical strength of 10 GPa or more by improving size and distribution of pores in the thin film by virtue of high-temperature ozone treatment and optimized treatment temperature.

고온 오존처리를 포함하는 나노기공 초저유전 박막의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 나노기공 초저유전 박막이 제공되며, 상기 제조 방법은 유기 실리케이트 매트릭스-함유 용액과 반응성 포라젠-함유 용액을 혼합하여 혼합용액을 준비하고; 상기 혼합용액을 기재 상에 도포하여 박막을 형성하고; 상기 박막을 열처리하며, 상기 열처리 과정 중에 오존 처리를 수행하는 것:을 포함하며, 이러한 제조 방법에 의하여 제조된 나노기공 초저유전 박막은, 고온의 오존 처리 및 처리온도의 최적화에 따른 박막 내의 기공의 크기와 분포도의 개선을 통해 2.3 이하의 유전율과 10 GPa 이상의 기계적 강도를 가질 수 있다.