1. The etching-solution composition comprises between 5 and 20 wt.% of hydrogen peroxide, between 0.1 and 5 wt.% of a sulphonic acid compound, between 0.1 and 2 wt.% of a carbonyl based organic acid compound, between 0.1 and 0.4 wt.% of a fluorine compound, between 0.01 and 3 wt.% of an azole based compound, and a remainder of water.

상기 식각액 조성물은, 5 내지 20 중량%의 과산화수소, 0.1 내지 5 중량%의 술폰산 화합물, 0.1 내지 2 중량%의 카보닐계 유기산 화합물, 0.1 내지 0.4 중량%의 불소 화합물, 0.01 내지 3 중량%의 아졸계 화합물, 및 나머지 물을 포함한다.

2. The cleaning-solution composition comprises: a water-soluble polymer including a monomolecular acid compound expressed in chemical formula 1 or a repeating unit expressed in chemical formula 3; and a solvent.

상기 세정액 조성물은 화학식 1로 표시되는 산성 단분자 화합물 또는 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 수용성 고분자; 및 용매를 포함한다.

3. Thermal dehydroboration of hydroxy arene boronic acid compound, and method for preparing hydroxy arene compound in which functional group is introduced to ortho or meta position of phenolic compound, using thermal dehydroboration

히드록시아렌 붕소산 화합물의 열적 탈붕소수소화 및 이를 이용하여 페놀계 화합물의 오르소 또는 메타 위치에 작용기를 도입시킨 히드록시아렌 화합물의 제조방법

4. The present invention relates to a magnetic resonance imaging (MRI) contrast medium containing a gadolinium complex, and more specifically, to a DO3A-tranexamic acid compound having a structure of chemical formula 1, or an ester compound thereof, and gadolinium complexes thereof.

본 발명은 가돌리늄 착물을 함유하는 MRI 조영제에 관한 것으로, 더욱 구체적으로 화학식 1의 구조를 갖는 DO3A-트라넥사믹산 또는 그 에스테르 화합물과 그들의 가돌리늄 착물에 관한 것이다.

5. The present invention provides the method for preparing the polyester resin containing the polycarbonate diol, comprising the following steps: reacting a dicarboxylic acid compound with a dihydroxy compound in an equivalent ratio of 1:0.7 to 1:0.9 for ester binding; and adding 15 to 50 wt% of the polycarbonate diol out of a total weight to the product from the reaction.

본 발명은 디카르복실산 화합물 및 디히드록시 화합물을 1:0.7 내지 1:0.9 당량비로 에스테르결합반응 시키는 단계; 및 상기 반응의 생성물에 폴리카보네이트디올을 전체 중량대비 15 ~ 50 중량% 첨가하는 단계를 포함하는 폴리카보네이트디올이 함유된 폴리에스터 수지의 제조방법을 제공한다.