1. Same layer microelectronic circuit patterning using hybrid laser projection patterning (lpp) and semi-additive patterning (sap)

Traçage de motif d’un circuit microélectronique de la même couche à l’aide d’un traçage de motif par projection laser (lpp) hybride et d’un traçage de motif semi-additif (sap)

2. Multiple-etch patterning may become a popular technique for future technology generations.

L'impression de motifs par gravure multiple pourrait devenir une technique assez en vogue pour les prochains nœuds technologiques.

3. Self-aligned via patterning with multi-colored photobuckets for back end of line (BEOL) interconnects is described.

La présente invention concerne le modelage de contours de trous d'interconnexion auto-alignés avec des hébergeurs d'images multicolores pour des interconnexions d'extrémité arrière de ligne (BEOL).

4. The updated almost blank subframe proportioning may be used in scheduling and load metric calculation, as well as almost blank subframe patterning.

Le dosage de sous-trame presque vide mis à jour peut être utilisé dans une planification et un calcul de mesures de charge, ainsi qu'un établissement de motif de sous-trame presque vide.

5. Research has been particularly active in relation to the roles of allelopathy in agriculture, forestry, phytopathology, patterning of vegetation, algal succession, and old-field succession.

La recherche a été particulièrement active sur les rôles de l’allélopathie en agriculture, foresterie, Phytopathologie, dans la distribution de la végétation, dans la succession d’algues et dans la succession d’anciens champs.

6. Electron acceptor layer may be formed by patterning formable N-type material between a template and an electrode layer, and solidifying the formable N-type material.

La couche d'accepteur d'électrons peut être formée par structuration d'un matériau de type N formable entre un gabarit et une couche d'électrode et par solidification du matériau de type N formable.

7. A laser writer for highly accurate patterning of devices, e.g. large area photomasks, with a numerical modulator which calculates instantaneous values of the modulator RF to be fed to the acoustooptic modulator.

La présente invention porte sur un dispositif d'écriture laser destiné à la modélisation hautement précise de dispositifs, par exemple des photomasques de grande surface, ayant un modulateur numérique qui calcule des valeurs instantanées de la radiofréquence (RF) de modulateur à alimenter au modulateur acousto-optique.

8. A p-type field effect transistor (PFET) and an n-type field effect transistor (NFET) are formed by patterning of a gate dielectric layer, a thin silicon layer, and a silicon-germanium alloy layer.

Selon l'invention, un transistor à effet de champ du type p (PFET) et un transistor à effet de champ du type n (NFET) sont formés par formation de motifs sur une couche diélectrique de grille, une couche mince de silicium et une couche d'alliage silicium-germanium.

9. A method for patterning a one or more biomolecules on a substrate that includes coating the substrate with a coating of the one or more biomolecules, applying a laser to the coating, and ablating a portion of the one or more biomolecules with the laser in a predetermined pattern.

L'invention concerne un procédé de formation d'un motif d'une ou plusieurs biomolécules sur un substrat qui consiste à déposer sur le substrat un revêtement de ladite ou desdites biomolécules, appliquer un faisceau laser au revêtement, et enlever une partie de ladite ou desdites biomolécules avec le laser selon un motif prédéterminé.