1. The respective compositions of the phase having Cr3Si-type (A15) and the T1-phase (W5Si3-type) differ from stoichiometry.

Die Phase mit Cr3Si-Typ (A15) und die T1-Phase (W5Si3-Typ) besitzen eine von der Stöchiometrie abweichende Zusammensetzung.

2. Advanced thin-film deposition techniques such as pulsed-laser deposition allow the formation of atomically smooth films and control over the material stoichiometry and composition.

Fortschrittliche Dünnfilm-Abscheidungstechniken, wie beispielsweise gepulste Laserabscheidung, ermöglichen die Bildung von atomar glatten Folien und die Kontrolle über die Materialstöchiometrie und -zusammensetzung.