1. The invention relates to the use of currentlessly deposited ternary nickel-containing metal alloys of the type NiM-R (whereby M = Mo, W, Re, Cr and R = B, P) in semiconductor technology.

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die Anwendung von stromlos abgeschiedenen ternären nickelhaltigen Metallegierungen des Typs NiM-R (mit M = Mo, W, Re, Cr und R = B, P) in der Halbleitertechnologie.